广信材料光刻胶项目已进入技术转移和二次研发准备

本篇文章557字，读完约1分钟

我们的记者曹维新见习记者李亚男

12月12日晚，广信材料宣布了光刻胶技术开发项目的进展。

2018年11月，公司与台湾企业广智新材料有限公司签订了“技术委托开发合同”，共同开发高分辨率的紫外正性光刻胶，可应用于印刷电路板、液晶显示器和led显示屏、半导体元器件等领域的柔性基板，并成功进入光刻胶领域。

记者了解到，根据应用领域的不同，光刻胶一般可分为三类:半导体集成电路(ic)光刻胶、pcb光刻胶和lcd光刻胶。目前，国内光刻胶市场仍以日本合成橡胶、东京日化(tok)、罗门哈斯、新越化工、富士电子材料等化工寡头为主。

根据公告，“光致抗蚀剂技术开发项目”是一个高分辨率的紫外线正性光致抗蚀剂，可应用于液晶显示器和发光二极管显示面板，柔性基板的印刷电路板，半导体元件和其他领域。目前，该项目第一批产品已取得研发成果，并已通过中国台湾客户的成功测试。产品的性能和质量极大地满足了客户的使用需求，现已进入技术转移和第二批R&D产品的准备工作。

广信材料表示，公司深入电子化工新材料领域，以特种油墨和特种涂料为主，在优化现有优势产品的基础上进行战略性立体布局，积极拓展光刻胶应用领域，作为现有光固化产品和技术的有效补充和延伸。“光刻胶技术开发项目”是公司光刻胶布局的重要组成部分。根据战略布局、R&D进度和市场情况，公司将积极推进项目进展，丰富公司产品线，拓展应用领域，进一步提高公司的市场竞争力和盈利能力。

据该公司称，“光致抗蚀剂技术开发项目”所涉及的液晶显示器和发光二极管显示面板、印刷电路板和半导体产品的光致抗蚀剂需要一段时间才能完全生产出来，并直接在中国大陆销售。

(编辑孙倩)